溅射氩气压对玻璃基TbFeCo磁光记录薄膜成分的影响

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中文摘要：用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频碰控溅射法在玻璃基表面上制备的TbFeCo磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系,以及表面Fe、Co元素的氧化情况.结果表明:在较高的氩气压下薄膜中Tb元素的成分比例较高;随着氩气压的降低,薄膜中Tb元素的成分比例逐渐地减少,而Fe和Co元素的成分比例逐渐增加,且Fe2p、CO2p的XPS高分辨谱中显示出振激峰、表明此时已有少部分的Fe、Co被氧化;而在低氩气压下,Fe2p、Co2P的XPS高分辨谱中显示出振激峰.

作者：

赵青南、赵修建、余家国、王皋、熊锐

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作者单位：

武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室(湖北武汉)

中南工业大学分析中心(湖南长沙)

华中理工大学固电系(湖北武汉)

关键词：

稀土铽 X射线光电子能谱玻璃基磁光薄膜

主办单位：

中国稀土学会

会议名称：

全国稀土玻璃陶瓷四届三次年会

会议时间：

2001-09-01

会议地点：

新疆

会议母体文献：

中国稀土学会

页码：

54-57

出版时间：

2001