磁控溅射氧化钒薄膜的研究

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磁控溅射氧化钒薄膜的研究

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中文摘要：本文讨论了在低温磁控溅射沉积氧化钒薄膜的特性,采用金属钒作为靶材,利用反应磁控溅射工艺制备了氧化钒薄膜,在适当的Ar:O比例条件下,通过改变溅射总压,溅射时间,溅射温度等工艺参数,探索了氧化钒的成膜工艺.并分析了不同工艺条件对薄膜方阻,薄膜电阻温度特性的影响.最后对样品进行了XPS分析,结果表明适当控制溅射氧化钒的工艺条件可以在较低温度下形成VOx,并具有较好的电特性.

作者：

吴志明、蒋亚东、牟宏、谢光忠、王波

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作者单位：

电子科技大学信息材料工程学院(四川成都)

关键词：

氧化钒溅射制备 XPS分析薄膜技术

主办单位：

中国仪器仪表学会

会议名称：

第四届中国功能材料及其应用学术会议

会议时间：

2001-10-01

会议地点：

厦门

会议母体文献：

第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集

页码：

1437-1438

出版时间：

2001