高压静电场对黄瓜生长发育的影响

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中文摘要：无论黄瓜种子时期是否经过静电场处理、苗期经适宜的静电场处理对植株生长均有促进作用，而且表现在后期第一雌花节位降低，雌花数目增加，Ⅰ<,30>和Ⅱ<,20>组优势表现最为明显，这说明种子时期经电场处理后可以适当减少苗期在电场中的处理时间。从形态解剖学上观察可以看到经高压静电场处理植株叶片中海绵组织和栅栏组织厚度增加，细胞体积增大，气孔密度减小，茎部细胞生长和分裂的速度加快，髓腔内薄壁细胞体积增大。

作者：

宋颖涛、于广建

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作者单位：

东北农业大学(哈尔滨)

关键词：

高压静电场黄瓜解剖结构

主办单位：

中国园艺学会

会议名称：

中国园艺学会第四届青年学术讨论会

会议时间：

2000-08-01

会议地点：

北京

会议母体文献：

园艺学进展(第四辑)

页码：

387-390

出版时间：

2000