NETL
用于光刻的高分辨力离轴掩模研究
罗先刚 1姚汉民 1周崇喜 2冯伯儒2
作者信息
- 1. 院光电所微细加工光学技术国家实验(成都)
- 2. 院光电所微细加工光学技术国家实验
- 折叠
摘要
该研究中，将离轴照明与相移掩模技术结合起来，在掩模上同时实现两种功能，可较大程度提高光启程分辨力，实验表明，在数值孔径０．４２，ｉ线曝光波长下，可将光刻分辨力从０．８微米提高到０．５微米。
关键词
离轴照明/相移掩模/光刻分辨力引用本文复制引用
主办单位
中国电子学会会议名称
第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会会议时间
1999-11-01会议地点
长沙会议母体文献
第十届全国电子束·离子束·光子束学术年会论文集页码
338-340出版时间
1999