三种中频对靶磁控溅射类金刚石膜的性能比较

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中文摘要：利用带有SP20MB新型电源(具有三种可选择工作模式(连续DC(直流)、频率为40-kHz的脉冲DC和脉冲AC)的非平衡磁控溅射镀系统合成了一系列含铬无氢DLC(类金刚石)薄膜,考察了磁控靶电压波形对合成薄膜性能的影响.以扫描电子显微镜、纳米硬度计、划痕试验机、球-盘试验机等测试方法考察了包括表面形貌、显微硬度、结合力和摩擦磨损的综合性能.对比结果表明:磁控靶电压波形对脉冲磁控溅射的等离子体特性交化具有重要影响,并因此影响合成薄膜的性能;其中反向电压(即空位电压)的幅值和持续时间是关键因素.在脉冲DC磁控溅射模式下DLC膜的综合性能要比在脉冲AC和连续DC磁控溅射模式中合成的更优越.

作者：

王成彪、于翔、刘阳、于德洋、吕建国

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作者单位：

中国地质大学工程技术学院表面工程研究所,北京,100083

北京实力源科技有限公司,北京,100072

关键词：

含铬DLC薄膜脉冲DC 中频对靶磁控溅射薄膜性能类金刚石薄膜摩擦磨损

主办单位：

中国机械工程学会

会议名称：

第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛

会议时间：

2006-08-01

会议地点：

兰州

会议母体文献：

第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集(上卷)

页码：

395-398

出版时间：

2006