苯并三氮唑和4-羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用的光电化学比较研究

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中文摘要：该文采用光电化学方法和交流阻抗方法对不同浓度下的BTA和4CBTA在硼砂缓冲溶液(pH9.2)中对铜电极的缓蚀性能作了比较研究。研究发现在阳极向电位扫描中，一定浓度的BTA作用下，铜电极光响应由p型转化为n型，并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能，n型光响应越大光电流变化明显，并可据此判断缓蚀剂的缓蚀性能，最大阴极光电流愈大，缓蚀效果越好。同时这两种缓蚀剂均可用Φ<,v>和某一较负电位下的阴极电流i<,ph>的大小来判断缓蚀剂的缓蚀性能，Φ<,v>和i<,ph>越负,缓蚀性能越好，交流阻力方法的结果和光电化学的结果相一致。

关键词：

铜电极光电化学交流阻抗苯并三氮唑铜缓蚀作用缓蚀剂

主办单位：

中国腐蚀与防护学会

会议名称：

中国腐蚀与防护学会成立20周年暨'99学术年会

会议时间：

1999-11-07

会议地点：

北京

会议母体文献：

腐蚀科学与防腐蚀工程技术新进展

页码：

392-397

出版时间：

1999