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P型Si上Ni-Pd薄膜的电沉积及XRD研究

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采用控电位沉积方式在P-Si上制备了Ni-Pd合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。XRD测试表明Ni-Pd合金呈面心立方的固溶体结构，其晶面间距随合金组成不同而变化。

龚正烈、姚素薇、张国庆、刘冰、郭鹤桐

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