深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用

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深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用

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中文摘要：随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功的应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义.

作者：

余国彬、姚汉民、胡松

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作者单位：

中国科学院光电技术研究所(成都)

关键词：

微型机电系统微细加工 LIGA工艺深度光刻深紫外光光刻

主办单位：

中国电子学会

会议名称：

第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议时间：

2001-10-10

会议地点：

成都

会议母体文献：

第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会论文集

页码：

182-184

出版时间：

2001