相移光纤光栅的两种制作方法的比较研究

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中文摘要：制作相移光纤光栅的方法有许多种,但用的最多的还是两次曝光法和遮挡法.本文通过分析两种方法所产生的相移的物理机制,发现在我们对光纤的反射率(或者光纤光栅的调制深度)有一定要求的情况下,由于用两次曝光法主要是通过调节相移区的光致折射率Δn<,2>的变化来得到我们所需要的相移量,而遮挡法主要是通过调整相移区的长度来得到我们所需要的相移量,因而两次曝光法比遮挡法更容易控制一些.

作者：

范薇、李学春、陈柏、陈兰荣、林尊琪

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作者单位：

高功率激光物理国家实验室中科院上海光机所

关键词：

光纤光栅相移折射率调制深度相移区长度两次曝光法遮挡法

主办单位：

中国通信学会

会议名称：

全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议

会议时间：

2001-10-01

会议地点：

上海

会议母体文献：

全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议论文集

页码：

665-667

出版时间：

2001