Cu/Co多层膜的制备及摩擦性能研究

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中文摘要：利用电沉积方法在铍青铜上制备了软硬相交替的Cu/Co多层膜,考察了多层膜的摩擦学性能和摩擦磨损机制.结果表明:Cu/Co多层膜与钢球对摩时具有较好的抗磨减磨性能,尤其是电解液中添加一定量的光亮剂后沉积的多层膜可以使表面粗糙度明显降低,使摩擦系数从0.60降低到0.16左右.采用扫描电子显微镜对多层膜的磨痕表面形貌进行观察分析,发现未添加光亮剂沉积的多层膜的磨损机制为严重的粘着磨损和剥落;添加光亮剂沉积的多层膜的磨痕表面存在擦伤现象和较浅的犁沟.

作者：

石雷、刘维民

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作者单位：

中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室(甘肃兰州)

关键词：

Cu/Co多层膜摩擦磨损性能磨损机制金属多层膜电沉积法

主办单位：

中国机械工程学会

会议名称：

第七届全国摩擦学大会

会议时间：

2002-08-05

会议地点：

兰州

会议母体文献：

第七届全国摩擦学大会论文集

页码：

667-669

出版时间：

2002