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磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究

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采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光Kerr谱仪,在室温下分别测量了TbFeCo薄膜的极向Kerr回线和横向Kerr回线,发现所制备TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.

张晋敏、郜小勇、李晶、周鹏、郑玉祥、王松有、张冬青、陈良尧

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放电等离子烧结(SPS) 磁光薄膜 椭偏光谱 磁光Kerr效应 TbFeCo薄膜 磁控溅射

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