移相掩模曝光中多余线条的去除技术

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中文摘要：移相掩模曝光中,尤其是全透明移相掩模或亮场的交替和全透明混合移相掩模曝光时必然会产生多余的线条情况,如何在移相掩模曝光中去除多余的线条是移相掩模实用化中很重要的问题.本文重点介绍移相掩模的基本原理,分析亮场的交替和无铬全透明混合移相掩模曝光时产生多余线条的原因,及去除多余线条的方法,并提出一种借鉴DDAP技术去除多余线条的移相掩模版图编辑技术.

作者：

陆晶、陈宝钦、刘明

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作者单位：

中国科学院微电子中心微细加工及纳米技术研究室(北京)

关键词：

交替式移相掩模全透明移相掩模 DDAP技术线条去除法

主办单位：

中国电子学会

会议名称：

第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会

会议时间：

2003-10-22

会议地点：

北京

会议母体文献：

第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会论文集

页码：

362-366

出版时间：

2003