氮化铝薄膜发光性能的研究进展

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氮化铝薄膜发光性能的研究进展

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中文摘要：本文介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法；综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状；对AlN薄膜的发光性能的应用前景做了展望。

作者：

佟洪波、辽宁石油化工大学、巴德纯、肖金泉、闻立时

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作者单位：

东北大学,辽宁,沈阳,110004

辽宁,抚顺,113001

中国科学院金属研究所,辽宁,沈阳,110016

关键词：

薄膜氮化铝电致发光发光性能

主办单位：

中国真空学会

会议名称：

2005’全国真空冶金与表面工程学术会议

会议时间：

2005-07-14

会议地点：

沈阳

会议母体文献：

2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集

页码：

109-111

出版时间：

2005