摘要
使用磁控溅射制备Ag和SiO2相间的多层膜,系统研究了退火对复合薄膜形貌和光学特性的影响。实验发现退火时间越长,Ag颗粒直径越大,吸收谱峰位相对较短的退火时间有红移现象,并且吸收谱峰比较宽,比较强.在退火时间足够长的情况下,随着每层SiO2厚度的减小,Ag颗粒直径也减小,吸收峰强度变小,峰宽变窄,峰位有蓝移现象。本研究做了大量实验,总结出了退火时间的计算公式。薄膜经过合适的退火时间,放置20d后发现出现小平面结构,Ag颗粒分裂,吸收谱峰宽变窄,吸收峰位蓝移。不同退火温度下的吸收谱表明500℃是一个比较理想的退火温度。
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