SU-8紫外深度光刻的误差及修正

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中文摘要：在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的.难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易.本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素;衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等.建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率.

作者：

郑津津、陈有梅、周洪军、田杨超、刘刚、李晓光、沈连婠

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作者单位：

中国科学技术大学精密机械与精密仪器系,安徽,合肥,230027

国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029

关键词：

SU-8光刻胶紫外深度光刻图形转移误差修正校正系统

主办单位：

同济大学

会议名称：

2007中德双边高级专家X射线光学研讨会

会议时间：

2007-04-17

会议地点：

上海

会议母体文献：

2007中德双边高级专家X射线光学研讨会论文集

页码：

1926-1931

出版时间：

2007