含Si-N-N单元硅氮烷的裂解研究:ll Me(CH<,2>-CH)SiCl<,2>肼解产物的裂解研究

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含Si-N-N单元硅氮烷的裂解研究:ll Me(CH<,2>-CH)SiCl<,2>肼解产物的裂解研究

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中文摘要：采用ＴＧ－ＧＣ，ＩＲ，ＸＲＤ及元素分析研究了Ｍｅ（ＣＨ〈，２〉＝ＣＨ）ＳｉＣｌ〈，２〉肼解产物在Ｎ〈，２〉和ＮＨ〈，３〉中裂解到１８７３Ｋ的变化，初步提出了裂解历程。

作者：

胡海峰、陈朝辉

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作者单位：

科技大学五系(长沙)

关键词：

硅氮烷裂解反应肼解陶瓷复合材料

主办单位：

中国材料研究学会

会议名称：

'96中国材料研讨会

会议时间：

1996-11-17

会议地点：

北京

会议母体文献：

'96中国材料研讨会论文集(材料设计与加工)

页码：

555-559

出版时间：

1996