X射线荧光光谱(XRF)法分析碳化硅陶瓷中的氧

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X射线荧光光谱(XRF)法分析碳化硅陶瓷中的氧

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中文摘要：X射线荧光光谱（XRF）法是一种可以进行化学成分检测的方法，在许多领域都得到成功应用。本文作者采用用XRF仪器，通过测量铑的康普顿散射线(RhKαC)强度的变化，对SiC陶瓷中的氧含量进行定量分析。

作者：

申如香、卓尚军、盛成

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作者单位：

中国科学院上海硅酸盐所，上海，200050

关键词：

X射线荧光光谱法碳化硅陶瓷化学成分检测氧含量定量分析

主办单位：

中国地质学会

会议名称：

第八届全国X射线荧光光谱学术报告会

会议时间：

2010-09-15

会议地点：

上海

会议母体文献：

第八届全国X射线荧光光谱学术报告会论文集

页码：

76

出版时间：

2010