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有机硅改性的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯单体的合成及其光固化性能研究
王思源 1邹应全1
作者信息
- 1. 北京师范大学 化学学院，北京 100875
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摘要
有机硅改性的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯是紫外纳米压印的常见抗蚀剂材料之一。甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯类单体属自由基聚合，反应速度快，与模具的分离能力较好，但抗刻蚀能力较差。经有机硅改性后，可提高单体的抗蚀性能、紫外光聚合的活性，提高抗蚀剂的固化性能，降低玻璃化转变温度，降低液体抗蚀剂的粘性还能保持膜的强度，降低固化膜的表面能。含有一个硅的甲基丙烯酸酯单体已有过报道，但含两个及两个以上的硅的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯单体从未有过报道。本文分别合成了含1至4个硅的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯类单体(其中含一个硅的反应过程见图1)，并对其结构、光固化性能以及固化后的表面能进行了研究。
关键词
纳米压印/抗蚀材料/丙烯酸酯/有机硅改性引用本文复制引用
主办单位
中国感光学会会议名称
中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会会议时间
2011-11-19会议地点
北京会议母体文献
中国感光学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会论文集页码
125-126出版时间
2011