不同工艺参数真空蒸镀制备Be薄膜研究

国家学术搜索

首页|不同工艺参数真空蒸镀制备Be薄膜研究

不同工艺参数真空蒸镀制备Be薄膜研究

扫码查看

原文链接

NETL

中文摘要：本研究采用真空热蒸发制备Be薄膜对利用磁控溅射制备Be/Cu靶丸进行了前期研究，采用不同的工艺参数制备Be薄膜，研究了不同基底材料、加热温度、加热时间、Be用量、靶基距等对Be薄膜生长率、粗糙度、表面形貌、物相等的影响规律，最终得到了薄膜生长最优的工艺参数。

作者：

李恺、罗炳池、罗江山、谭秀兰、李佳、韩尚君

展开 >

作者单位：

中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳 621900

关键词：

铍薄膜真空热蒸法工艺参数制备工艺

主办单位：

中国核学会

中国物理学会

会议名称：

第十一届全国核靶技术学术交流会

会议时间：

2011-07-01

会议地点：

云南腾冲

会议母体文献：

第十一届全国核靶技术学术交流会论文集

页码：

34-37

出版时间：

2011