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反场箍缩实验装置KTX环向场磁体真空压力浸渍工艺及实验研究
郑金星 1杨庆喜 1宋云涛 1刘万东 2万树德 1张平 1李宏 2毛文哲 2尤伟 1徐永兴 1徐皓 1王泳彬1
作者信息
- 1. 中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥23003l
- 2. 中国科技大学近代物理系,安徽合肥230015
- 折叠
摘要
KTX反场箍缩装置的主要参数介于RFX装置与MST装置之间.反场箍缩的磁体系统主要由24个纵向场线圈、26个欧姆场场线圈、16个平衡场线圈以及104个鞍型线圈组成,均采用真空压力浸渍工艺设计,由于RFP中的磁面对于外部的特别是等离子体的边界处的径向磁场比较敏感,所以需要环向场磁体的磁场更加精细,这对于线圈的磁场分布、误差场以及波纹度等的设计提出了更高的要求.真空压力浸渍工艺直接影响到磁体的精度和安全性,本文针对KTX装置环向场磁体进行系统的结构设计、电磁分析、真空压力浸渍工艺以及力学和高压实验研究.
关键词
反场箍缩磁约束装置/环向场磁体/真空压力浸渍工艺/结构设计/电磁分析/力学性能引用本文复制引用
主办单位
安徽省真空学会/浙江省真空学会/江苏省真空学会/上海真空学会会议名称
第九届华东三省一市真空学术交流会会议时间
2015-05-29会议地点
杭州会议母体文献
第九届华东三省一市真空学术交流会论文集页码
163-169出版时间
2015