不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响

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中文摘要：采用微波等离子体化学气相沉积法,以N2/H2/CH4为气源,通过改变反应气氛中的N2浓度(10％～30％)制备了金刚石薄膜.采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸以及薄膜质量进行了分析,研究了不同浓度氮气对于沉积金刚石薄膜的影响,结果表明:当氮气浓度低于30％时,沉积的金刚石薄膜晶粒尺寸变化不明显,表面平整度较好,氮气浓度达到30％时,金刚石晶粒增大,缺陷增加;随着氮气浓度增加,薄膜中金刚石相含量下降,同时,金刚石趋向于(111)面优先生长.

作者：

Wang Xiao-an、王小安、Wang Jian-hua、汪建华、Sun Qi、孙祁、Huang Ping、黄平

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作者单位：

Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province,Wuhan Institute of Technology Materials Science and Engineering,Hubei Wuhan 430074

武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北武汉 430074

Institute of Plasma Physics,Chinese Academy of Sciences,Hefei 230031

中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥 230031

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关键词：

纳米金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积法氮气浓度晶粒尺寸表面平整度薄膜质量

主办单位：

中国电子学会

会议名称：

第十七届全国微波能应用学术会议

会议时间：

2015-09-01

会议地点：

南京

会议母体文献：

第十七届全国微波能应用学术会议论文集

页码：

145-148

出版时间：

2015