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提拉法单晶硅生长系统中碳杂质输运与控制的数值模拟与实验验证

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本文阐述了提拉法单晶硅生长系统中碳杂质输运与控制的数值模拟与实验验证,结果表明:过量碳氧杂质降低CZ-Si工艺中的晶体品位,碳杂质对少流子寿命的危害主要发生在氧含量较高的CZ-Si晶体中,气体导流筒与Si熔体间隙对C杂质输运影响取决于扩散距离。

刘鑫、原田博文、宫村佳儿、韩学峰、中野智、西泽伸一、柿本浩一

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