摘要
金刚石具有优异的力学、电学、热学、光学、声学和化学能,在高新技术领域具有十分广阔的应用前景,其中薄膜态金刚石比颗粒状金刚石的应用前景更加广阔,金刚石薄膜的制备与与应用已经成为科学技术界的热点之一.目前,制约金刚石薄膜应用的关键技术之一是如何改善膜基间结合性能.近年来,国际上提出了在金刚石薄膜和基体间施加过渡层的构想,并开展了相关研究,如离子植入、物理气相沉积、电子束蒸发过渡层等.但是,到目前为止,在电沉积层上化学相沉积(CVD)金刚石薄膜的研究还几乎没有报道,从而大大制约了 人们对过渡层作用的系统认民制约了过渡层技术的实际应用.该文在对金汪膜和基体间的过渡层进行深入研究的基础上,选择电沉积层作为对象,研究在电沉积层上金刚石薄膜的成膜机理与技术,其中涉及到的电沉积技术包括:单金属Ni沉积、Ni-Mo诱导沉积、Ni-金刚石复合沉积和Ni-Mo-金刚石诱导复合沉积,CVD沉积技术采用微波法化学气相沉积.
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