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UV254消毒和高锰酸钾氧化对DOM光化学活性影响研究

孔雅倩

UV254消毒和高锰酸钾氧化对DOM光化学活性影响研究

孔雅倩1
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作者信息

  • 1. 华中科技大学
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摘要

溶解性有机物(DOM)在水环境中几乎无处不在。在太阳光照射下,DOM产生激发三线态(3DOM*)、单线态氧(1O2)、羟基自由基(?OH)等活性物质,对水体微量污染物迁移转化具有重要作用。UV254消毒和高锰酸钾氧化是水处理过程的常见工艺。DOM经过UV254消毒和高锰酸钾氧化后其结构组成、分子量、官能团等理化性质会发生改变,进而可影响DOM光致活性物质的生成。但是,这两种水处理工艺对DOM光化学活性的影响尚不清楚。本文以污水处理厂二级出水有机物(EfOM)、典型腐殖质(HS)以及天然有机物(NOM)为研究对象,通过尺寸排阻色谱(SEC)、紫外可见光谱(UV-Vis)和三维荧光光谱(3DEEM)对这些DOM经过UV254消毒和高锰酸钾氧化后的理化性质变化进行表征,通过探针化合物对DOM光致活性物质的生成进行测定,并且对DOM的理化性质与光化学活性进行了关联分析。实验主要内容及结论如下: (一)UV254消毒对DOM光化学活性的影响: (1)EfOM和HS经过UV254消毒后其芳香性、荧光强度及分子量降低。(2)模拟太阳光照射下,UV254消毒后的EfOM和HS样品其3DOM*的生成速率降低;1O2的生成速率和稳态浓度降低;?OH的生成速率和稳态浓度升高。(3)UV254消毒后EfOM样品的三线态量子产率系数(fTMP)和1O2的量子产率(Φ1O2)增大,HS样品fTMP和Φ1O2减小,EfOM和HS样品?OH的量子产率(Φ?OH)均增大。EfOM和HS样品的Φ1O2与fTMP均呈正相关,EfOM样品的Φ?OH与fTMP呈正相关而HS样品的Φ?OH与fTMP呈负相关。(4)UV254消毒前EfOM和HS样品的fTMP、Φ1O2和Φ?OH与E2/E3(254nm与365nm处吸光度比值)呈正相关;UV254消毒后EfOM和HS样品的Φ?OH与E2/E3仍呈正相关,EfOM样品的fTMP和Φ1O2与E2/E3呈正相关而HS样品的fTMP和Φ1O2与E2/E3呈负相关。 (二)高锰酸钾氧化对DOM光化学活性的影响: (1)NOM经过高锰酸钾氧化后其芳香度、荧光强度及分子量降低。(2)模拟太阳光照射下,NOM样品经高锰酸钾氧化后其3NOM*生成速率升高,而1O2和?OH的生成速率和稳态浓度降低。(3)高锰酸钾氧化后,NOM样品的fTMP和Φ1O2增大,Φ?OH减小。NOM样品的Φ1O2与fTMP呈正相关,而Φ?OH与fTMP呈负相关。(4)对于未经高锰酸钾氧化的NOM样品,fTMP和Φ1O2均与E2/E3呈正相关,经高锰酸钾氧化后各样品的fTMP和Φ1O2与E2/E3仍呈正相关。

关键词

UV254消毒/高锰酸钾氧化/溶解性有机物/光化学活性/理化性质

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授予学位

硕士

学科专业

市政工程

导师

陈勇

学位年度

2021

学位授予单位

华中科技大学

语种

中文

中图分类号

X7
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