摘要
《集成电路布图设计保护条例》从2001年10月1日开始施行至今已经走过了20多年。但是在我国，侵犯集成电路布图设计专有权这一特殊知识产权的司法判例十分稀少。由于案件数量的不足，致使了当事人以及审判案件的法官都无法获得足够的经验，也无法参考更多现有的类似判例来处理侵犯布图设计专有权的司法案件。此外，目前我国现有的法律法规中没有详尽、具体的侵权认定方法，这导致了认定布图设计侵权的标准非常模糊。本文通过对侵犯集成电路布图设计专有权的典型司法判例进行研究，从中分析出我国在司法实践中对布图设计侵权认定的审判过程中出现的矛盾，总结出最主要的争议点集中在专有权保护范围的界定存在争议、认定独创性的做法未达统一、判定接触加规则有待完善、反向工程行为与侵权行为容易混淆这四个方面。本文将围绕上述侵权认定制度中的问题出发展开讨论。 本文对侵犯集成电路布图设计专有权的典型司法判例中的争议点进行分类分析，总结出现有侵权认定制度中存在的问题。对于反映权利保护范围的载体的选择，我国目前的布图设计登记备案制度并未明确规定，当不同载体所反映的布局设计内容不完全一致时该怎么界定专有权保护范围。现阶段，要明确以复制件或者图样作为主要依据，而在未来，通过完善登记备案制度，探索以电子版布图作为主要依据的新模式，取代传统的以纸质复制件或图样作为布图设计登记备案的方法。对于独创性的认定标准，一是要求申请人登记备案时固定独创性范围，从而向社会公众公示布图设计的独创性内容。二是建立与布图设计登记备案制度相适应的布图设计检索库，对双方有争议的布图设计可以更客观地判断其是否具有独创性。对于接触加实质性相似的判定规则，一是要充分考虑被告是否有“接触”的可能，二是判定“相似”时不应当以相似度的百分比作为直接判定依据，每一个具有独创性的部分都应该受到保护。对于规范反向工程行为合法性的边界，本文介绍了美国此类案件的判定标准，探索适合中国国情的判定策略。
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