摘要
近年来，医药安全问题备受社会各界关注，特别是在药物中可能存在的基因毒性杂质问题，更是引起了广大研究者和公众的广泛担忧。基因毒性杂质，作为一种潜在的危害因素，其对人体健康的影响不容忽视。然而，目前对于这些杂质的 DNA损伤机理，研究仍然相对有限。综上，此论文的主要内容是研究药物中基因毒性杂质邻氯苯胺的基因损伤机理，以及制备发光-印迹聚合物用于其去除，主要研究包括以下几个方面： 第一部分：邻氯苯胺基因损伤的机理研究。 本部分致力于探索基因毒性杂质邻氯苯胺的基因毒性表达机理。研究主要围绕细胞损伤和基因损伤两个方面展开，深入剖析邻氯苯胺的毒性作用机制。通过细胞实验，邻氯苯胺能使细胞中活性氧（Reactive Oxygen Species，ROS）表达升高，而活性氧作为一种强氧化剂，能够直接造成细胞和基因损伤。以及通过深入的基因分析，发现邻氯苯胺具备显著的基因毒性，能够诱导基因断裂。利用彗星实验这一灵敏的 DNA损伤检测技术，观察到邻氯苯胺会使人肝癌细胞（HepG-2）和巨噬细胞发生明显的 DNA断裂现象。进一步地发现邻氯苯胺能够诱导HepG-2细胞和巨噬细胞高水平表达组蛋白受体 H2AX 的磷酸化产物（γH2AX），同时细胞周期检查点激酶 1（CHK1）和多聚ADP 核糖聚合酶 1（PARP-1）的表达也显著升高，这些都表明细胞内存在 DNA 损伤。此外，邻氯苯胺还导致细胞中 P53结合蛋白 1（53BP1）的表达降低，这暗示 DNA修复能力可能会受到影响，进一步加剧损伤。综上所述，邻氯苯胺对生物体健康构成潜在威胁，对其毒性机制的深入研究对于保障药物安全和人类健康至关重要。 第二部分：发光印迹聚合物的制备及应用。 为了实现对邻氯苯胺的高效分离，本研究制备发光印迹聚合物。本研究以低共熔溶剂（Deep Eutectic Solvents，DES）为原材料，引入碳纳米管（Carbon Nanotube， CNT）作为支撑物，并以邻氯苯胺为模板，经过设计和制备，成功合成具有发光性能的分子印迹聚合物（Molecularly Imprinted Polymer，MIP）：DES-CU@CNT-MIP。这种聚合物不仅性质稳定，而且对邻氯苯胺展现出卓越的吸附性能。使用多种仪器全面表征 DES-CU@CNT-MIP 的结构，包括扫描电子显微镜（SEM）、激光粒度仪、热重分析仪（TGA）以及表面积和孔隙率测定分析仪，得到 DES-CU@CNT-MIP 的形貌结构、粒径分布、热稳定性以及比表面积等信息。通过吸附耦合实验验证 DES-CU@CNT-MIP 对邻氯苯胺的吸附分离效果，实验结果表明，DES-CU@CNT-MIP 对邻氯苯胺的去除效果较好，在邻氯苯胺浓度为 1～60 μg mL-1时，显现出良好的线性关系，并且检测限达到 0.10 ng mL-1，有良好的选择性和灵敏性。能特异性识别邻氯苯胺，对提高原料药的安全性有重要作用。 本研究的结果不仅有助于深化对邻氯苯胺毒性机制的理解，还为开发高效的分离技术提供了有力支持。这对于保障药物质量和患者安全具有重要意义，也为相关领域的进一步研究奠定了坚实基础。
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