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期刊信息/Journal information
高技术通讯
中国科学技术信息研究所
高技术通讯

中国科学技术信息研究所

赵志耘

月刊

1002-0470

hitech@istic.ac.cn

010-68598272

100045

北京市三里河路54号

高技术通讯/Journal Chinese High Technology LettersCSCD北大核心CSTPCDEI
查看更多>>《高技术通讯》创刊于1991年,是由国家科技部高技术研究发展计划(863计划)联合办公室创办、中国科学技术信息研究所主办的综合性学术刊物,是国内高技术领域的高层次学术刊物之一。内容涉及计算机、现代通讯、机器人、先进制造与自动化技术、新材料、能源、生物、海洋及其他高技术领域。本刊注重研究的新思路、新理论、新方法和新技术的择文标准,使其具有学术性、前沿性、可读性和资料性。其宗旨是为我国研究人员及时发表其研究成果和进行国内、国际学术交流提供园地,促进我国高技术研究的发展和扩大其在国内外的影响。本刊为美国《化学文摘》(CA)、 英国《科学文摘》(SA)及俄罗斯《文摘杂志》、荷兰《Scopus》、《中国科学引文数据库》、《中国科技论文统计与分析》等收录源期刊。  
正式出版
收录年代

    K9光学元件的锥形约束射流抛光流场与加工实验研究

    袁巧玲王玥文东辉孔凡志...
    320-330页
    查看更多>>摘要:提出了锥形约束射流抛光的加工方法,将原本垂直的细小射流约束成几乎平行于工件表面的环形射流。使用Fluent软件对抛光流场进行数值分析,根据Preston方程建立了材料去除函数模型;并以K9 玻璃为加工对象,利用自主设计的锥形约束射流抛光平台进行加工实验。结果表明,锥形约束射流抛光方法法向最大速度比切向最大速度小63。9%,从而减少射流在垂直于工件表面方向的冲击损伤;锥形约束射流抛光后,K9 玻璃表面粗糙度在加工区域内呈"V"型分布,其算数平均粗糙度(Ra)值从 95。40 nm 降至14。52 nm,表面质量得到明显提高。锥形约束射流抛光主要依靠射流沿工件表面的剪切力,不仅有效减小了射流法向冲击力,对射流的约束还减小了射流束的发散;确定的表面去除函数表明该方法有望实现确定性抛光;另外,环形的射流出口提高了射流抛光的效率。

    锥形约束冲击损伤表面粗糙度K9玻璃去除函数

    《高技术通讯》作者投稿指南

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