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视网膜曝光方法、装置、电子设备及可读存储介质

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本发明提供了视网膜曝光方法、装置、电子设备及可读存储介质,涉及视网膜曝光技术领域,包括:在红外光通过瞳孔照射视网膜的情况下,实时获取视网膜直方图的像素平均值,并将像素平均值与预设直方图序列的预设像素平均范围值进行比对,当像素平均值落入预设像素平均范围值内时,得到与像素平均值相对应的视网膜直方图的第一亮度;通过红外光的第一反射率与第一波长值在数据库中查找对应的关系函数;根据关系函数设置多光谱光源的发光量,以使在多光谱光源通过瞳孔照射视网膜的情况下,获取的视网膜直方图的第二亮度与第一亮度相同,为不同患者眼睛提供适合的发光亮度,在缩短曝光时间的同时,使得生成的视网膜图像更加清晰。

CN201811545643.9

CN109620137B

发明专利

2018-12-17

2022-02-08

A61B3/14(2006.01)

深圳盛达同泽科技有限公司;北京明达同泽科技有限公司

王宁利、冬雪川、任建伟、黄叶权、陈桔、陈振华、刘可星、甄毅

518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道如意路52号荣超新成大厦19楼12、13、15、16单元

中国(CN)