一种空间相机遮光罩蒙皮拼接缝制方法

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中文摘要：本发明提供了一种空间相机遮光罩蒙皮拼接缝制方法，包括以下步骤：S1、将第一缝合件的边缘向上翻折，翻折后形成的区域作为翻折一区，形成的翻折边为第一翻折边；S2、将第二缝合件的边缘向下翻折，翻折后形成的区域作为翻折二区，形成的翻折边为第二翻折边；S3、将翻折一区和翻折二区进行插接扣锁配合，使第一翻折边设置在翻折二区内，使第二翻折边设置在翻折一区内，翻折一区和翻折二区相互重叠的部分作为重叠区；S4、重叠区的一侧手工缝合第一缝制线，重叠区的另一侧手工缝合第二缝制线，在第一缝制线和第二缝制线之间人工缝合第三缝制线。本发明解决了现有技术中因单点线纱堆积或线纱缺陷的因素导致缝线脱落，使空间相机遮光罩蒙皮拼接处强度低的问题。

申请号：

CN202311547029.7

公开号：

CN117552191A

专利类型：

发明专利

申请日：

2023-11-20

公开日：

2024-02-13

IPC分类：

D05B35/02(2006.01)

申请人：

天津航天机电设备研究所

发明人：

王垒、王玉凤、何华东、李志勇、王龙、林秋红

主申请人地址：

300301 天津市滨海新区高新园区滨海科技园神舟大道101号

国别省市代码：

中国(CN)