摘要
本发明针对目前的强制冷却工作台上存在的起始升温慢而降温快易造成在基体侧面沿着厚度方向上的温度场和反应气体流场不一致，沉积的CVD金刚石膜的残余应力高、厚度均匀性差等问题，公开了一种能多面沉积CVD金刚石膜的高热阻镂空衬底工作台，其特征是上框(1)的内部安装有丝网(2)，上框(1)和支座(4)通过支架(3)相连，沉积CVD金刚石膜的基体(6)均匀安放在丝网(2)上，丝网(2)安放基体(6)的平面与支座(4)下底面平行。保证了刚开始沉积金刚石时基体温度上升迅速，在沉积金刚石结束时基体温度下降缓慢，改善了反应气体流场均匀性，在该衬底工作台上沉积的衬底侧面和上表面的CVD金刚石膜厚度和质量基本一致，CVD金刚石膜的残余应力降低，特别适合于硬质合金刀具的表面沉积。
NSTL