一种大流量单进口环形集液腔均流装置

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中文摘要：该技术属于集液腔均流装置技术领域，具体涉及一种大流量单进口环形集液腔均流装置。其包括流路进口、一次大均流腔、径向均流孔、二次小均流腔、流路出口、集液腔基体。流路进口位于集液腔基体正上方，其下方为一次大均流腔，在一次大均流腔中，并与流路进口相对的正下方为进口均流板，进口均流板上开有数个通孔，可以起到局部整流作用，使得沿环形集液腔周向的压力分布基本趋于均匀，同时可以将局部流阻控制在较低水平。径向均流孔位于一次大均流腔下游，共有多个径向均流孔在大均流腔的底部沿周向排列，并与二次小均流腔连接，起到进一步均流作用的同时将局部流阻控制在较低水平。

申请号：

CN201410347815

公开号：

CN105317586A

专利类型：

发明专利

申请日：

2014-07-21

公开日：

2016-02-10

IPC分类：

F02K9/60(2006.01)I

申请人：

北京航天动力研究所

发明人：

李丹琳、王仙、高翔宇、赵世红、丁兆波、刘红珍、王召、孙纪国、许晓勇、田原、乔桂玉、王维彬、程鹏

主申请人地址：

100076 北京市丰台区南大红门路一号

国别省市代码：

中国(CN)