摘要
目的 研究低电流密度下电化学加工过程中选区激光熔化(SLM)制备Hastelloy X合金微观组织结构对其耐腐蚀特性的影响,为抑制低电流密度条件下电化学加工Hastelloy X合金表面杂散腐蚀奠定理论基础.方法 利用配备有电子背散射衍射系统的扫描电子显微镜和电子探针X射线显微分析仪研究SLM制备和锻造成形的Hastelloy X合金微观结构的差异,对比开路电位和极化曲线的测量结果,确定低电流密度下的ECM最优工艺参数,分析2种成形工艺制备Hastelloy X合金动电位极化曲线中的关键电化学参数,获得低电流密度下ECM过程中微观组织特征对SLM制备和锻造Hastelloy X合金耐蚀性能的影响规律.结果 与商用锻造Hastelloy X合金相比,SLM制备Hastelloy X合金具有精细的晶粒尺寸以及更小的再结晶比例,锻造Hastelloy X合金晶界和晶内析出了大量弥散分布的M23C6型碳化物.在优化的工艺参数条件下,SLM制备Hastelloy X合金在36℃的10％(质量分数)NaNO3电解液中具有较小的自腐蚀电流密度(2.01×10−6 A/cm2)和钝化电流密度(3.01×10−5 A/cm2).结论 SLM制备Hastelloy X合金在电化学加工过程中具有较高的耐腐蚀性能,能有效抑制杂散腐蚀现象,进而达到提高加工精度的目的.通过分析微观组织对SLM制备Hastelloy X合金耐腐蚀特性的影响规律,为电化学加工过程中抑制镍基高温合金的杂散腐蚀现象奠定了基础.
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