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Ti-48Al-2Cr-2Nb钝化膜的电化学性能及形成机理

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探究Ti-48Al-2Cr-2Nb合金钝化膜的耐腐蚀性和形成机理对提高电解加工过程中的抗杂散腐蚀具有重要意义。通过极化曲线确定了Ti-48Al-2Cr-2Nb合金的钝化电位,采用X射线光电子能谱确定了钝化膜的成分与结构,并运用电化学阻抗谱和Mott-Schottky理论分析了钝化膜的电化学性能。结果表明,Ti-48Al-2Cr-2Nb合金在NaNO3电解液中钝化电位区间为0。079~1。896 V,钝化膜主要成分为Al2O3、TiO2及少量的Nb2O5,呈双层多孔结构,具有良好的耐腐蚀性。钝化膜具有n型半导体特性,载流子密度随钝化电位的增加而降低。最后,构建了钝化膜形成示意图,揭示了Ti-48Al-2Cr-2Nb合金钝化膜的形成机理与成相膜理论相符,以半球体模型延展并形成独立的相。
Electrochemical Properties and Formation Mechanism of Ti-48Al-2Cr-2Nb Passive Film

Ti-48Al-2Cr-2Nb alloyelectrochemical impedanceMott-Schottkypassive mechanism

王鑫、丁泽良、唐卿、肖鹏、李文元、廖翠姣

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湖南工业大学机械工程学院 湖南 株洲 412007

Ti-48Al-2Cr-2Nb合金 电化学阻抗 Mott-Schottky 钝化机理

国家自然科学基金湖南省自然科学基金

220720402023JJ50163

2024

包装学报
湖南工业大学

包装学报

影响因子:0.509
ISSN:1674-7100
年,卷(期):2024.16(1)
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