长春理工大学学报(自然科学版)2024，Vol.47Issue(1) ：77-84.

基于磁控溅射和电子束蒸发合成Mn-Co-Ni-O薄膜

Effect of Post-annealing Process on Preferred Orientation and Optical Properties of Magnetron Sputtering Mn-Co-Ni-O Thin Films

赵媛媛 向阳 宋贺伦
长春理工大学学报(自然科学版)2024，Vol.47Issue(1) ：77-84.
✕
  • 维普
  • 万方数据

基于磁控溅射和电子束蒸发合成Mn-Co-Ni-O薄膜

Effect of Post-annealing Process on Preferred Orientation and Optical Properties of Magnetron Sputtering Mn-Co-Ni-O Thin Films

赵媛媛 1向阳 1宋贺伦2
扫码查看

作者信息

  • 1. 长春理工大学 光电工程学院,长春 130022
  • 2. 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州 215213
  • 折叠

摘要

锰钴镍氧(Mn-Co-Ni-O,MCNO)薄膜因为具有优异的负温度系数特性在近年来受到广泛关注,现采用射频磁控溅射和电子束蒸发相结合的方式,在单抛蓝宝石(Al2O3)衬底上制备MCNO薄膜,并采用一系列表征探讨了后道退火(Post Annealing,PA)温度对所制薄膜的微观结构和光学性质的影响.结果表明,随着PA温度的提高,MCNO膜的晶粒尺寸和间隔均呈现增大趋势.X射线光电子能谱结果表明,Mn3+/Mn4+的比例随着温度的升高而增大.电学和光学特性研究表明,在PA温度为850℃,条件为空气退火1 h得到的MCNO薄膜在温度范围为220～300 K范围内符合VRH模型,TCR系数良好,激活能为0.32 eV,薄膜在红外可见波段具有较高吸收率.

关键词

MCNO薄膜/射频磁控溅射/电子束蒸发/后退火工艺/X射线光电子能谱

Key words

MCNO thin film/radio frequency magnetron sputtering/electron beam evaporation/post-annealing process/X-ray photoelectron spectroscopy

引用本文复制引用

基金项目

江苏省碳达峰碳中和科技创新专项(BE2022021)

苏州市碳达峰碳中和科技支撑重点专项(ST202219)

出版年

2024
长春理工大学学报(自然科学版)
长春理工大学

长春理工大学学报(自然科学版)

CSTPCD
影响因子：0.432
ISSN：1672-9870
参考文献量21
段落导航相关论文