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基于磁控溅射和电子束蒸发合成Mn-Co-Ni-O薄膜

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锰钴镍氧(Mn-Co-Ni-O,MCNO)薄膜因为具有优异的负温度系数特性在近年来受到广泛关注,现采用射频磁控溅射和电子束蒸发相结合的方式,在单抛蓝宝石(Al2O3)衬底上制备MCNO薄膜,并采用一系列表征探讨了后道退火(Post Annealing,PA)温度对所制薄膜的微观结构和光学性质的影响.结果表明,随着PA温度的提高,MCNO膜的晶粒尺寸和间隔均呈现增大趋势.X射线光电子能谱结果表明,Mn3+/Mn4+的比例随着温度的升高而增大.电学和光学特性研究表明,在PA温度为850℃,条件为空气退火1 h得到的MCNO薄膜在温度范围为220～300 K范围内符合VRH模型,TCR系数良好,激活能为0.32 eV,薄膜在红外可见波段具有较高吸收率.
Effect of Post-annealing Process on Preferred Orientation and Optical Properties of Magnetron Sputtering Mn-Co-Ni-O Thin Films

MCNO thin filmradio frequency magnetron sputteringelectron beam evaporationpost-annealing processX-ray photoelectron spectroscopy

赵媛媛、向阳、宋贺伦

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长春理工大学 光电工程学院,长春 130022

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州 215213

MCNO薄膜 射频磁控溅射 电子束蒸发 后退火工艺 X射线光电子能谱

江苏省碳达峰碳中和科技创新专项苏州市碳达峰碳中和科技支撑重点专项

BE2022021ST202219

2024

长春理工大学学报(自然科学版)
长春理工大学

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CSTPCD
影响因子：0.432
ISSN：1672-9870
年,卷(期)：2024.47(1)
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