摘要
随着各种电子设备对电磁兼容性的要求越来越高，如何有效减少电磁辐射，提高电子设备的EMC性能，保护重要目标和人员健康，成为关注和研究的重要内容[1-3]。变电站、炼钢厂、高压传输线等不可避免的更侧重于工频电场的屏蔽。在用屏蔽室法测量材料屏蔽效能时，对发射天线与测试窗口的距离有一定的要求。为了得到材料对平面波的屏蔽效能，应该保证天线的远场发射状态，即发射天线与测试窗口的距离足够远。本文提出了一种屏蔽室近场屏蔽理论，从根本上解释了该距离对屏蔽效能测量结果的影响。所得理论可以用于指导屏蔽室法测量材料屏蔽效能实验。
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