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微细阵列结构电子束加工试验研究

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基于电子束曝光基本理论和工艺原理,以涂覆有PMMA抗蚀剂的石英玻璃为研究对象,采用电子束曝光制备微细阵列结构,研究不同工艺参数对曝光微细阵列孔和阵列槽结构的影响.结果表明,在PMMA薄膜厚度250 nm、曝光剂量400 pAs/cm2、显影时间120 s的条件下,可制备出直径2μm的阵列微孔结构;在PMMA薄膜厚度225 nm、曝光剂量500 pAs/cm2、显影时间90 s的条件下,可制备出宽度1μm、间距50μm的阵列微槽结构.
Experimental Research on Fabrication of Array of Microstructures by Using Electron Beam Lithography

颜泽林、马志兵、汪炜

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南京航空航天大学机电学院,江苏南京 210016

南京航空航天大学无锡研究院,江苏无锡 214187

电子束曝光 抗蚀剂 工艺参数 阵列微孔 阵列微槽

2021

电加工与模具
苏州电加工机床研究所 中国机械工程学会特种加工分会

电加工与模具

CSTPCD
影响因子：0.285
ISSN：1009-279X
年,卷(期)：2021.(3)
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