大科技2018，Issue(30) ：323.

PS Mura不良品质管控体系的研究

费雯 蒋磊 刘勤 田静 李玲玉 任彦夫
大科技2018，Issue(30) ：323.
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PS Mura不良品质管控体系的研究

费雯 1蒋磊 1刘勤 1田静 1李玲玉 1任彦夫1
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作者信息

  • 1. 合肥京东方光电科技有限公司 安徽合肥 230011
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摘要

随着市场对高端NB&TPC产品要求越来越高,大尺寸产品分辨率越来越高,越来越轻薄,带来的技术上难点,导致产品出现PS设计,生产工艺波动以及人员作业手法导致发生PS Mura的问题,不仅造成较大的良率Loss,还给产品的品质带来极大风险.

关键词

设计/工艺波动/MS段差/LC量

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出版年

2018
大科技
海南省科学技术信息研究所

大科技

影响因子：0.172
ISSN：1004-7344
参考文献量2
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