大科技2018,Issue(32) :325.

浅谈光掩模版设计与制作

王小霞 甄娟
大科技2018,Issue(32) :325.

浅谈光掩模版设计与制作

王小霞 1甄娟1
扫码查看

作者信息

  • 1. 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
  • 折叠

摘要

光掩模版(简称Mask)是TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器,Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)显示屏技术常用的光刻工艺所使用的图形母版.本文介绍了液晶显示屏中TFT-Array(阵列)侧基板和CF(彩色滤光片,color filter)侧基板的Mask的概念、Mask版图设计与制作相关基本内容.

关键词

Mask版/Mask版图设计/制版工艺

引用本文复制引用

出版年

2018
大科技
海南省科学技术信息研究所

大科技

影响因子:0.172
ISSN:1004-7344
参考文献量2
段落导航相关论文