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电子世界
2021,
Issue
(3) :
87-90.
Array 5 mask和4 mask工艺对LC Margin的影响
叶宁
童超
王尖
电子世界
2021,
Issue
(3) :
87-90.
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来源:
NETL
NSTL
维普
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Array 5 mask和4 mask工艺对LC Margin的影响
叶宁
1
童超
2
王尖
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作者信息
1.
南京中电熊猫平板显示科技有限公司
2.
成都中电熊猫显示科技有限公司
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出版年
2021
电子世界
中国电子学会 北京思得易咨询中心
电子世界
影响因子:
0.238
ISSN:
1003-0522
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被引量
1
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