摘要
在集成电路生产中,浸入式投影光刻[1]最重要的步骤之一,它负责将复杂的目标图案转移到硅晶元表面.但是,随着"摩尔定律"诞生和集成电路生产工艺不断的前进,硅晶元上图案的关键尺寸不断的缩小,光刻设备照明系统所使用的几种波长却变化不大.分辨率增强技术[2]的重要性就脱颖而出.由于光学投影不断地面临着分辨率极限的挑战,在实际的电路设计中科研人员不得不协同使用多种优化算法,本文采用的自适应矩估计方法(Adam Algorithm,Adam)算法是SGD改进,能够很好地适应梯度变化,对步长进行自适应调整以加速优化过程.
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