工程建设与设计2023，Issue(20) ：81-83.DOI:10.13616/j.cnki.gcjsysj.2023.10.226

半导体新材料清洗废水处理技术研究及展望

Research and Prospect of Cleaning Wastewater Treatment Technology of Semiconductor New Materials

康宽华
工程建设与设计2023，Issue(20) ：81-83.DOI:10.13616/j.cnki.gcjsysj.2023.10.226
✕
  • NETL
  • NSTL
  • 维普
  • 万方数据

半导体新材料清洗废水处理技术研究及展望

Research and Prospect of Cleaning Wastewater Treatment Technology of Semiconductor New Materials

康宽华1
扫码查看

作者信息

  • 1. 广东绿日低碳科技有限公司,广东珠海 519000
  • 折叠

摘要

半导体新材料的广泛使用与不断发展,使得生产半导体新材料过程产生了大量的清洗废水,如果对其处理不当,容易导致环境污染.因此,论文研究了半导体新材料清洗废水处理技术,并结合目前成功的工程案例经验,对半导体新材料废水进行研究,明确了采用分水及针对不同废水材料采用不同的预处理工艺,并采用A2/O+MBR组合工艺处理半导体新材料清洗废水,能保证出水达到DB 44/26-2001《广东省水污染物排放限值》第二时段一级排放标准要求.

关键词

半导体/清洗废水/预处理/A2/O+MBR

Key words

semiconductor/cleaning wastewater/pretreatment/A2/O+MBR

引用本文复制引用

出版年

2023
工程建设与设计
国家机械工业局工程建设中心 中国机械工业勘察设计协会 中国中元国际工程公司

工程建设与设计

影响因子：0.494
ISSN：1007-9467
参考文献量3
段落导航相关论文