光电工程2001，Vol.28Issue(5) ：69-72.

离子束溅射沉积干涉光学薄膜技术

Production of Optical Coatings with Ion Beam Sputter Deposition Technique

张云洞 刘洪祥
光电工程2001，Vol.28Issue(5) ：69-72.
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离子束溅射沉积干涉光学薄膜技术

Production of Optical Coatings with Ion Beam Sputter Deposition Technique

张云洞 1刘洪祥1
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  • 1. 中国科学院光电技术研究所
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摘要

离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量光学薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术所无法比拟的优点.但是,国内对这方面的研究和介绍甚少,且鲜见报到.本文着重介绍了离子束溅射技术的发展、原理和特征以及应用前景.

关键词

离子束溅射/光学薄膜/光腔衰荡

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出版年

2001
光电工程
中国科学院光电技术研究所 中国光学学会

光电工程

CSCD北大核心
影响因子：0.65
ISSN：1003-501X
被引量15
参考文献量3
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