射流抛光用于纳米深度修形

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中文摘要：描述了射流抛光加工中各种重要参数与材料去除率的相互关系,如加工时间、磨粒浓度、磨粒直径、微粒速度以及扫描运动的影响.-部分实验证明了去除极少量的材料(少于1 nm/min)的可能性.在理论和实验上将定点抛光与相对移动情况下得到的去除点进行对比.最后通过理论和实验证明,材料是以塑性方式去除的.

外文标题：Nanometer Deep Shaping with Fluid Jet Polishing

作者：

张玲花

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出版年：

2011

光机电信息

中国光学学会

光机电信息

影响因子：0.254

ISSN：1007-1180

年,卷(期)：2011.28(3)

被引量1