双光源DMD数字光刻系统

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中文摘要：基于DMD数字光刻系统,建立了一种新型的双光源DMD数字光刻系统.双光源DMD数字光刻系统由光源照明系统、DMD数字微镜、投影物镜以及CCD调焦系统等几个部分组成.实验表明,与DMD数字光刻系统相比,双光源DMD数字光刻系统具有调焦点不被曝光的优点,可用于制作光纤端面微光学器件.

外文标题：Double-light-source DMD Digital Lithography System

作者：

余秋香、易云

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作者单位：

江西应用技术职业学院,江西赣州341000

赣南师范学院,江西赣州341000

关键词：

双光源 DMD 数字光刻

出版年：

2011

DOI：

光机电信息

中国光学学会

影响因子：0.254

ISSN：1007-1180

年,卷(期)：2011.28(8)