光学技术2001，Vol.27Issue(5) ：410-412.

离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition

顾培夫 李海峰 章岳光 刘旭 唐晋发
光学技术2001，Vol.27Issue(5) ：410-412.
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离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition

顾培夫 1李海峰 1章岳光 1刘旭 1唐晋发1
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  • 1. 浙江大学
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摘要

用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性.采用实验修正膜层厚度修正板的办法获得了较好的均匀性分布,给出了实验配置、实验方法和实验结果,并对实验结果作了分析讨论.

关键词

离子束溅射/DWDM滤光片/厚度均匀性

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出版年

2001
光学技术
北京兵工学会 北京理工大学 中国北方光电工业总公司

光学技术

CSCD北大核心
影响因子：0.441
ISSN：1002-1582
被引量13
参考文献量4
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