国家学术搜索
登录
注册
中文
EN
光源与照明
2024,
Issue
(3) :
34-36.
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
刘莹
光源与照明
2024,
Issue
(3) :
34-36.
引用
认领
✕
来源:
NETL
NSTL
万方数据
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
刘莹
1
扫码查看
点击上方二维码区域,可以放大扫码查看
作者信息
1.
福建兆元光电有限公司,福建 福州 350109
折叠
摘要
现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理.湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用.文章基于半导体清洗设备发展情况,针对LED芯片的制作流程,就湿化学清洗设备产能以及耗水计算方法进行分析,结合各次刻蚀清洗工艺后晶圆表面形貌分析,探讨了清洗设备在相关制造工艺中的应用.
关键词
湿化学清洗设备
/
GaN基
/
LED正装芯片
引用本文
复制引用
出版年
2024
光源与照明
上海市照明学会
光源与照明
影响因子:
0.153
ISSN:
引用
认领
段落导航
相关论文
摘要
关键词
引用本文
出版年
参考文献
引证文献
同作者其他文献
同项目成果
同科学数据成果