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高世代面板生产线化学气相沉积设备气体扩散器温场均匀性和稳定性研究
高世代面板生产线化学气相沉积设备气体扩散器温场均匀性和稳定性研究
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中文摘要:
气体扩散器是高世代化学气相沉积(CVD)设备沉积腔中的核心组件,能实现沉积腔大面积全范围的温度均匀性和稳定性控制,并实现上下电极距离的灵活调节和精确控制,对保证 CVD 沉积薄膜质量起到关键作用.本文从气体扩散器工作原理出发,探索出温度均匀性和稳定性规则,并与气体扩散器新品制备工艺相结合,优化气体扩散器微观结构,有效建立高精密稳速升降多区域温度均匀性气体扩散器加工模型,解决高世代化学气相沉积设备沉积温度均匀性和稳定性控制技术难题,实现高世代化学气相沉积大面积镀膜质量的有效提升.
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作者:
司奇峰、刘其贵、何新玉、熊宏祥
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作者单位:
芜湖通潮精密机械股份有限公司,安徽 芜湖 241000
关键词:
气体扩散器
温度均匀性
稳定性
出版年:
2024
中国石油和化工标准与质量
中国化工信息中心 中化化工标准化研究所
中国石油和化工标准与质量
影响因子:
0.241
ISSN:
1673-4076
年,卷(期):
2024.
44
(24)