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氮化硅粉体制备技术及粉体质量研究进展

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氮化硅(Si3N4)具有优异的物化性能,在国防、电子信息等关键领域都占据重要的地位.高质量粉体是制备高性能Si3N4陶瓷的首要前提.通常高质量Si3N4粉体需要满足粒径细、分布窄、α相含量高、杂质含量低等条件.基于合成反应体系综述了当前国内外制备Si3N4粉体的方法,着重从强化传热与传质角度介绍了改善粉体质量的研究进展,并介绍了当前工业生产现状,展望了高质量Si3N4粉体制备技术的发展趋势和方向.
Research advances in preparation technology and quality of silicon nitride powder

向茂乔、耿玉琦、朱庆山

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中国科学院过程工程研究所多相复杂系统国家重点实验室,北京100190

中国科学院大学化学工程学院,北京100049

氮化硅 粉体技术 碳热氮化法 硅粉直接氮化法 化学气相沉积法 硅胺前体转化法 合成机理

中国科学院青年创新促进会人才项目南京绿色制造产业创新研究院重大项目

292021000085E0010708

2022

10.11949/0438-1157.20210866

化工学报
中国化工学会 化学工业出版社

化工学报

CSTPCDCSCD北大核心
影响因子：1.26
ISSN：0438-1157
年,卷(期)：2022.73(1)
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