不同掺量YF3氟化物助剂对Si3N4显微结构及热导率的影响

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中文摘要：通过加入不同含量的YF3氟化物助剂,在1900℃/1 MPa N2压力下保温4 h,以研究YF3含量差异对于Si3N4显微结构及热导率的影响.结果表明,少掺量的YF3助剂对Si3N4的致密过程基本没有影响,但能较明显促进晶粒的生长从而提高热导率;当加入大掺量YF3时,致密过程因为气体物质的生成及助剂本身的挥发而受到一定抑制,由此引发较多的气孔,但因为大掺量YF3组的晶粒尺寸更大,样品最终的热导率也更大,最高达到了81.88 W/(m-1·K-1).

作者：

吕东霖、黄念胜

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作者单位：

广东工业大学机电工程学院,广东广州510006

关键词：

氮化硅(Si3N4) YF3氟化物助剂热导率

基金：

佛山市科技创新团队项目肇庆市西江创新创业团队项目

项目编号：

FS0AA-KJ919-4402-0023

出版年：

2022

DOI：

10.19514/j.cnki.cn32-1628/tm.2022.10.006

机电信息

江苏《机电信息》杂志社有限公司

机电信息

影响因子：0.453

ISSN：1671-0797

年,卷(期)：2022.(10)

参考文献量4