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氧化层对纳米划痕诱导金属定向沉积的影响研究

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金属微纳结构在电磁及等离子体传感、能量收集、信息存储、生物技术等方面具有广泛的应用前景,而实现金属微纳结构的可控制备是保障其应用的基础.采用光刻胶掩膜实现金属(Au)定向沉积,研究了划痕表面去氧化层处理对定向沉积行为的影响,据此实现高质量金属微纳结构的制备.结果表明,光刻胶可有效起到掩膜作用,使金属能够在单晶硅表面的划痕上实现选择性定向沉积;去除划痕表面的氧化层可使沉积的金属微纳结构更为平整致密,划痕区域导电位点增多且分布均匀,更利于电化学反应发生,因而在其表面析出的单质金属更为均匀.
Effect of Oxide Layer on Nanoscratch-induced Directional Deposition of Metals

monocrystalline siliconnanoscratchphotoresistmetal micro/nanostructuresoxide layermetal directional deposition

徐长宝、辛明勇、冯起辉、崔立聪、朱杰、余丙军

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贵州电网有限责任公司电力科学研究院,550002,贵阳

西南交通大学机械工程学院,610031,成都

单晶硅 纳米划痕 光刻胶 金属微纳结构 氧化层 金属定向沉积

贵州电网有限责任公司科技项目

GZKJXM20220047

2023

10.13990/j.issn1001-3679.2023.05.022

江西科学
江西省科学院

江西科学

影响因子：0.286
ISSN：1001-3679
年,卷(期)：2023.41(5)
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